Verwendet für die Dotierung von Halbleiter material Silizium, hoch temperatur beständiges Material, Hochtemperatur-Hoch leistungs halbleiter und Metalls prüh additiv.
Produktname
Bor
Mehrere Namen
Bor pulver;
Bor kristallin;
Bor pulver
Amorph
CAS-Nr. 7440-42-8
EG Nr. 231-151-2
MF Nr. B
MW Nr. 10.811
Assay-Artikel | Standard |
Form | Stücke |
Farbe | Dunkelgrau |
Dichte | 2,34g/ml |
Schmelzpunkt | 2300 °C |
Siedepunkt | 2550 °C |
Verstärken Sie Kunststoffe.
Schutz platte für Atom reaktor, um Strahlung zu verhindern.
Geringe Dichte, hohe Festigkeit und hoher Schmelzpunkt.
E-Mail:
r@reformchem.comRufen Sie uns an:
+86-17551318830Anschrift:
17th Yuanlin Road, Chongchuan area, Nantong, Jiangsu, China.
+86-17551318830 
r@reformchem.com 
Englisch
English
日本語
français
Deutsch
Español
русский
português
العربية
ไทย
tiếng việt
Polska
